得到50nm范圍內的研磨
較小的研磨腔體和強大的輸入功率，同樣是很小粒徑的研磨介質得到高強的運動，剪切。平均粒徑常在50nm以內。
使用0.1-0.8mm的研磨介質
改進設計的棒銷體系，使較小的鋯珠能夠高速運轉，離心式分離系統，在使用較小鋯珠的同時，保持出料順暢，實現高流量。
實現連續循環式研磨腔
創建的直桶型密度室的研磨腔，根據選定的模式，定子和桶內的距離，在7.5至13毫米范圍內，轉子的運動使介質保持徑向運動，對產品的剪切力不斷增加，缸體內形成連續不斷的循環，短時間內使粒徑達到要求。
粉碎室的幾何狀設計，確保均勻的顆粒和分布。
應用于高純度，無污染的材料
對要求無污染的物料，研磨棒銷可使用氧化鋯，碳化鎢材料；研磨桶可使用碳化硅、聚氨酯材質，出料器使用特殊的陶瓷材料。用特殊的陶瓷材料。